研究設備
研究設備
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2.5TW高強度レーザーシステム
2.5TW高強度レーザーシステム
Amplitude Technology社製 高強度チタンサファイアレーザー
波長: 810nm
レーザー出力: 2.5TW
パルスエネルギー: 150mJ
パルス長: 40fs
集光強度: 1018W/cm2
設置場所: 工学研究科E6棟
高繰り返しpsレーザー
高繰り返しpsレーザー
浜松ホトニクス社製 MOIL-ps L11590
波長: 1030nm
平均出力: 4W
パルスエネルギー: 200µJ
設置場所: 工学研究科E6棟
IPリーダー
IPリーダー
富士フィルム社製 BAS-2000II
イメージングプレートの読み取りに使用
走査型電子顕微鏡
走査型電子顕微鏡
日本電子製 JSM-6010V
ナノ構造体の観察に使用
ポテンショスタット
ポテンショスタット
東方技研社製 高性能マルチポテンショ/ガルバノスタット PS-08
ナノ構造体作成・金属メッキに使用
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